LOGO ANALISIS KONSENTRASI LOGAM PENGGANGGU Cu DENGAN ICP-OES

Diambil sebanyak 5; 10; 15; 20;25; 30; 35; 40; dan 45 ml

Dimasukkan ke dalam labu ukur 50 ml

Diencerkan dengan aqua DM hingga tanda batas

Diukur intensitas masing-masing larutan Pada panjang gelombang 324,754 nm

Dibuat kurva kalibrasi dengan mengalurkan Garis antara plot konsentrasi dengan intensitas

LARUTAN STANDAR Cu 10 ppm

KURVA KALIBRASI

LOGO

ICP-OES

PENENTUAN KADAR Cu

ANALISIS KONSENTRASI LOGAM PENGGANGGU Cu DENGAN ICP-OES

Filtrat Cu

Pada panjang gelombang 324,754 nm

LOGOHASIL & PEMBAHASAN

KADAR UNSUR DALAM CUPLIKAN

Tabel 4.1 Hasil Analisa XRF pada Cuplikan Awal

CuplikanUNSUR (%)

Fe Cu Mn Au Si S

A 18,9 0,28 0,05 0,01 71,7 1,3

B 41,42 6,13 0,25 0,02 37,8-

C 32,99 6,55 0,30 0,02 43,7-

Logam Minor Au

Logam MayorLogam Minor pengganggu

Sulfur

LOGOPEMBAHASAN

PENGARUH ROASTING

Cuplikan % S sebelum roasting

% S setelah roasting

A 1,3 1,1

B - -

C - -

Tabel 4.2 Kadar Unsur S Hasil XRF Sebelum dan Sesudah Roasting

LOGO PEMBAHASANPELARUTAN BERTINGKAT AQUADES

Tabel 4.2 Kadar Unsur Hasil XRF Sebelum dan Sesudah Pelarutan Aquades

Cuplikan PerlakuanKandungan Logam (%)

Fe Cu Au S

A R*Sebelum 9,89 0,16 0,02 1,1

Sesudah 12,3 0,19 0,02 1,3

B NR*Sebelum 41,42 6,13 0,02 -

Sesudah 38,69 6,53 0,02 -

C NR*Sebelum 32,99 6,55 0,02 -

Sesudah 32,8 6,88 0,02 -

LOGO PELARUTAN BERTINGKAT HCl

Tabel 4.3 Kadar Unsur Hasil XRF pada Pelarutan HCl

Cuplikan Konsentrasi HCl (%)

Kandungan Logam (%)Fe Cu

A

10 8,18 0,1520 2,73 0,1230 1,17 0,1232 7,73 0,14

B

10 38,11 0,7620 29,22 0,6030 16,3 0,57832 6,2 0,13

C

10 30,25 0,97920 23,4 0,78130 14,0 0,81432 10,6 0,735

0

1

2

3

4

5

6

7

8

9

0 10 20 30 40

% k

dar

unsu

r

% HCl

Kadar Unsur (%) dalam Cuplikan A pada Pelarutan HCl

Fe

Cu

0

5

10

15

20

25

30

35

40

45

0 10 20 30 40

% k

dar

unsu

r

% HCl

Kadar Unsur (%) dalam Cuplikan B pada Pelarutan HCl

Fe

Cu

0

5

10

15

20

25

30

35

0 10 20 30 40

% k

dar

unsu

r

% HCl

Kadar Unsur (%) dalam Cuplikan C pada Pelarutan HCl

Fe

Cu

KONSENTRASI OPTIMUM HCl 30%

LOGO

Filtrat Hasil pelarutan HCl dengan konsentrasi meningkat dari kiri ke kekanan. (a) Cuplikan A Roasting (b) Cuplikan B Non Roasting dan (c) Cuplikan C Non Roasting.

PELARUTAN BERTINGKAT HCl

LOGO PELARUTAN BERTINGKAT H2SO4

Tabel 4.4 Kadar Unsur Hasil XRF pada Pelarutan H2SO4

Cuplikan Konsentrasi H2SO4(%)

Kandungan Logam (%)Fe Cu

A10 5,19 1,1220 6,78 0,1230 6,84 0,12

B10 15 0,5220 13,8 0,530 13,1 0,44

C10 12,5 0,63220 10,3 0,65730 11,8 0,668

0

1

2

3

4

5

6

7

8

0 10 20 30 40

% k

dar

unsu

r

% H2SO4

Kadar Unsur (%) dalam Cuplikan A pada Pelarutan H2SO4

Fe

Cu

0

2

4

6

8

10

12

14

16

0 10 20 30 40

% k

dar

unsu

r

% H2SO4

Kadar Unsur (%) dalam Cuplikan B pada Pelarutan H2SO4

Fe

Cu

0

2

4

6

8

10

12

14

0 10 20 30 40%

kda

r un

sur

% H2SO4

Kadar Unsur (%) dalam Cuplikan C pada Pelarutan H2SO4

Fe

Cu

KONSENTRASI OPTIMUM H2SO4 20%

LOGO

Lapisan Filtrat dan Endapan Hasil pelarutan H2SO4 dengan konsentrasi meningkat dari kiri ke kekanan.

(a)Cuplikan A Roasting (b)Cuplikan B Non Roasting dan (c)Cuplikan C Non Roasting.

PELARUTAN BERTINGKAT H2SO4

LOGO PELARUTAN BERTINGKAT HNO3

Tabel 4.4 Kadar Unsur Hasil XRF pada Pelarutan HNO3

Cuplikan Konsentrasi HNO3 (%)Kandungan Logam (%)

Fe Cu

A10 1,38 0,1220 1,23 0,1230 1,14 0,13

B10 17,1 0,5620 14,7 0,4830 14,8 0,48

C10 10,6 0,56720 10,4 0,55630 10,3 0,50

0

0.2

0.4

0.6

0.8

1

1.2

1.4

1.6

0 10 20 30 40

% k

dar

unsu

r

% HNO3

Kadar Unsur (%) dalam Cuplikan A pada Pelarutan HNO3

Fe

Cu

02468

1012141618

0 10 20 30 40

% k

dar

unsu

r

% HNO3

Kadar Unsur (%) dalam Cuplikan B pada Pelarutan HNO3

Fe

Cu

0

2

4

6

8

10

12

0 10 20 30 40

% k

dar

unsu

r

% HNO3

Kadar Unsur (%) dalam Cuplikan C pada Pelarutan HNO3

Fe

Cu

KONSENTRASI OPTIMUM HNO3 10%

LOGO

Lapisan Filtrat dan Endapan Hasil pelarutan HNO3 dengan konsentrasi meningkat dari kiri ke kekanan.

(a)Cuplikan A Roasting (b)Cuplikan B Non Roasting dan (c)Cuplikan C Non Roasting.

PELARUTAN BERTINGKAT HNO3

LOGO

OPTIMUMHNO3 10%

HCl 30%

H2SO4 20%

LOGO ANALISIS KONSENTRASI LOGAM PENGGANGGU Cu DENGAN ICP-OES

y = 62039x + 4609,5R² = 0,9999

0

100000

200000

300000

400000

500000

600000

700000

0 5 10 15

Inte

nsita

s ra

ta-r

ata

Konsentrasi Cu

Kurva Kalibrasi Cu

konsentrasi VS intensitas rata-rata

Linear (konsentrasi VS intensitas rata-rata)

CUPLIKAN AWAL(ppm) AKHIR(ppm)

A 0,4078 0,051

B 15,65447 0,510067

C 23,75367 0,58993

LOGO

KESI

MPULAN Berdasarkan hasil XRF, rasio (%) Au dalam cuplikan naik dari 0,01 % menjadi

0,02 % pada cuplikan A dan 0,02% menjadi 0,03% pada cuplikan B dan C.

Berdasarkan hasil analisa ICP-OES, metode ini dapat mengurangi logam pengganggu Cu, dari 0,4078ppm menjadi 0,051 ppm pada cuplikan A, dari 15,65ppm menjadi 0,51ppm pada cuplikan B, dan dari 23,75 ppm menjadi 0,59 ppm pada cuplikan C.

Urutan pelarut asam pada pelarutan bertingkat adalah HCl,H2SO4,kemudian HNO3, dengan konsentrasi optimummasing-masing HCl 30%, H2SO4 20% dan HNO3 10%

Logam-logam mayor dan logam minor sebagai pengganggu larut dalam pelarut dan berkurang dalam cuplikan,

Roasting berpengaruh pada cuplikan yang mengandung mineral sulfida.

LOGO