Silicon Amorf Terhidrogenasi

22
PERANAN LAPISAN-i TERHADAP EFISIENSI SEL SURYA p-i-n BERBASIS SILIKON AMORF TERHIDROGENASI (a-Si:H) SUPRIANTO 1109201710 DOSEN PEMBIMBING Prof. Dr. DARMINTO, M.Sc PROGRAM MAGISTER BIDANG KEAHLIAN MATERIAL JURUSAN FISIKA FAKULTAS MATEMATIKA DAN ILMU PENGETAHUAN ALAM INSTITUT TEKNOLOGI SEPULUH NOPEMBER SURABAYA 2011

description

jurnal

Transcript of Silicon Amorf Terhidrogenasi

  • PERANAN LAPISAN-i TERHADAP EFISIENSI SEL SURYA p-i-n BERBASIS SILIKON AMORF TERHIDROGENASI (a-Si:H)

    SUPRIANTO1109201710

    DOSEN PEMBIMBINGProf. Dr. DARMINTO, M.Sc

    PROGRAM MAGISTERBIDANG KEAHLIAN MATERIAL

    JURUSAN FISIKA FAKULTAS MATEMATIKA DAN ILMU PENGETAHUAN ALAM

    INSTITUT TEKNOLOGI SEPULUH NOPEMBER SURABAYA

    2011

  • PENDAHULUAN

    GLASSITO

    Lapisan p (a-Si:H)

    Lapisan i (a-Si:H)Lapisan n (a-Si:H)

    Logam Al

    LATAR BELAKANG

  • RUMUSAN MASALAHBagaimana peranan lapisan-i terhadap efisiensi sel surya p-i-n berbasis a-Si:H.

    TUJUANFabrikasi Sel Surya p-i-n berbasis Silikon

    Amorf TerhidrogenasiMengetahui Peranan lapisan-i Terhadap

    Efisiensi Sel Surya p-i-n Berbasis Silikon Amorf Terhidrogenasi

    PENDAHULUAN

  • BATASAN MASALAH

    Deposisi lapisan a-Si:H tipe p, tipe-i dan tipe n dilakukan menggunakan sistem RF-PECVD 13,56 MHz di atas substrat glass corning Eagle XG berukuran 10 x 10 cm2dengan ketebalan 1,1 mm.

    Sedangkan deposisi sel surya p-i-n berbasis a-Si:H dilakukan di atas substrat glass ITO berukuran 10 x 10 cm2 dengan ketebalan 1,1 mm.

    PENDAHULUAN

  • Kajian Pustaka

    Kelebihan dan Kekurangan Sel Surya amorf

    Kelebihan Optical bandgap a-Si:H ~1,8 eV Koefisien absorbsi cahaya tampak

    a-Si:H (~106 cm-1). Temperatur penumbuhannya

    rendah, yaitu 150C-270C.

    Kekurangan Memilki struktur kurang baik, dan

    efisiensi konversinya lebih rendahdibanding c-Si

    p a-Si:H

    i a-Si:Hn a-Si:H

    elektron

    lubang

    Cahaya matahari

  • Lapisan-i yang terlalu tebal dapat menyebabkan: Semakin efisien cahaya yang diserap Menurunkan Fill factor

    Kajian Pustaka

    Lapisan-i yang terlalu tipis dapat menyebabkan: Semakin berkurang cahaya yang diserap Meningkatkan Fill Factor Arus hubungan pendek ISC berkurang

  • hubungan ketebalan lapisan-i dengankarakteristik I-V sel surya

  • METODOLOGI PENELITIAN

    Tebal lapisan

    KonduktivitasVariable aliran H2yang diubah

    Lapisan tipe-n

    Lapisan tipe-i

    Lapisan tipe-p

    P = 530 mTorr

    SiH4 20 sccm

    H2 70 sccm

    B2H6 2 sccm

    P = 530 mTorr

    SiH4 20 sccm

    P = 530 mTorr

    SiH4 20 sccm

    H2 70 sccm

    PH3 3 sccm

    Metodologi pengaturan parameter pembuatan lapisan tipe-p, tipe-i dan tipe-n

  • METODOLOGI PENELITIAN

    Tipe-p

    PL3

    T = 270 CP = 530 mTorrt = 30 menit

    dummy

    PL3

    Substrat dipindahkanke ITZ

    Tipe-i

    PL3

    T = 270 CP = 530 mTorrt = 20 menit

    Tipe-n

    PL3

    T = 270 CP = 530 mTorrt = 30 menit

    Substrat dimasukkan

    T = 270 CP = 530 mTorrt = 30 menit

    Sel Surya p-i-n

    evaporator Karakteristik I-V-Effisiensi-Fill Factor-Struktur permukaan dan ketebalan

    Sel surya p-i-n

    Substrat dikeluarkan

    Diagram Fabrikasi Sel Surya p-i-n

  • Alat dan Bahan Kaca ITO (100 x 100 x 1,1 mm3) Corning Glass Eagle XG (100 x 100 x 1,1) mm3

    Alkohol (Ethanol C2H5OH 96%) Sistem Plasma Enhanced Chemical Vapour

    Deposition (PECVD) Perangkat Nanocalc 2000 dan software Perangkat 4 point probe Kawat Tungsten Aluminium evaporator

    METODOLOGI PENELITIAN

  • METODOLOGI PENELITIAN

    No Tipe

    lapisan

    Laju

    (SiH4)

    (sccm)

    Laju

    (H2)

    (sccm)

    Laju

    (B2H6)

    (sccm)

    Laju

    (PH3)

    (sccm)

    Suhu

    Substrat

    (C)

    Daya

    RF

    (watt)

    Tekanan

    deposisi

    (mTorr)

    Waktu

    deposisi

    (menit)

    1 lapisan-p 20 70 2 - 270 5 530 30

    2lapisan-i

    20 50 - - 270 5 530 30

    3 20 70 - - 270 5 530 30

    4 lapisan-n 20 70 - 3 270 5 530 30

    optimasi parameter deposisi lapisan p-i-n a-Si:H

  • METODOLOGI PENELITIANFabrikasi Sel Surya

  • Fabrikasi Sel Surya METODOLOGI PENELITIAN

  • Karakteristik I-V

    V

    A

    Vm Voc

    METODOLOGI PENELITIAN

  • Hasil dan Pembahasan

    Lapisan tipe-pKetebalan pada lapisan-p yang dideposisi di dalam PECVD selama 30 menit sebesar 315 nm dan laju deposisi sebesar 1,75 /s serta konduktivitas terang dan gelap yang masing-masing sebesar 4,0 x 10-3 dan 3,5 x 10-3 S/cm.

    Lapisan tipe-nKetebalan pada lapisan-n yang dideposisi di dalam PECVD selama 30 menit sebesar 318 nm dan laju deposisi sebesar 1,77 /s serta konduktivitas terang dan gelap yang masing-masing sebesar 3,55 x 10-2 dan 2,37 x 10-2 S/cm

    Karakterisasi lapisan tipe-p, tipe-i, dan tipe-n

  • Ketebalan dan laju deposisi lapisan-i

    Hasil dan Pembahasan

    Sampel SiH4(sccm)

    H2(sccm)

    Ketebalan

    (nm)

    Laju deposisi

    (/s)

    1 20 50 315 1,75

    2 20 70 300 1,67

    Karakterisasi lapisan tipe-p, tipe-i, dan tipe-n

  • SampelLaju H2(sccm)

    Laju deposisi

    (/s)d (S/cm) ph (S/cm)

    Fotorespon

    (ph/ d)

    1 50 1,75 3,63 x 10-8 4,33 x 10-4 1,19 x 104

    2 70 1,67 3,8 x 10-9 5,87 x 10-5 1,53 x 104

    Hasil dan Pembahasan

    Konduktivitas gelap dan konduktivitas terang sampel a-Si:H tipe-i

    Karakterisasi lapisan tipe-p, tipe-i, dan tipe-n

  • Struktur permukaan sel surya p-i-n Hasil dan Pembahasan

  • Karakteristik I-V sel surya Hasil dan Pembahasan

    Grafik karakteristik sel surya a-Si:H pada luas 1 cm2dengan laju Hidrogen 50 sccm

    Grafik karakteristik sel surya a-Si:H pada luas 1 cm2 dengan laju Hidrogen 70 sccm

    ISC = 1,6 mA/cm2VOC = 0,454 volt = 1,18%

    ISC = 2,71 mA/cm2VOC = 0,568 volt = 2,7%

  • Hasil dan Pembahasan

    Grafik karakteristik sel surya a-Si:H pada luas 0,25 cm2 dengan laju Hidrogen 70 sccm

    Karakteristik I-V sel surya

    ISC = 6,58 mA/cm2VOC = 0,449 volt = 5,31%

  • KESIMPULAN Telah berhasil difabrikasi sel surya p-i-n berbasis silikon amorf Lapisan tipis a-Si:H telah diaplikasikan sebagai lapisan-i sel surya p-

    i-n silikon amorf dengan variasi laju Hidrogen 50 sccm dan 70 sccm dengan ketebalan masing-masing sebesar 3150 dan 3000 , sedangkan ketebalan lapisan-p dan lapisan-n dibuat konstan yaitu sebesar 3150 dan 3180. Di bawah penyinaran dengan intensitas 24,7 mWatt/cm2 pada luasan 1 cm2 di dapatkan nilai karakteristik sel surya p-i-n terbaik pada ketebalan sebesar 3000 dengan ISC dan VOC masing-masing sebesar 2,71 mA/cm2 dan 0,568 volt, denganeffisiensi sebesar 2,7 %.

    Nilai Optimum karakteristik I-V sel surya p-i-n berbasis silikon amorf terhidrogenasi diperoleh pada luas 0,25 cm2 dengan nilai ISC dan VOC masing-masing 6,58 mA/cm2 dan 0,449 volt dengan effisiensi

    5,31%.

  • TERIMAKASIH

    PERANAN LAPISAN-i TERHADAP EFISIENSI SEL SURYA p-i-n BERBASIS SILIKON AMORF TERHIDROGENASI (a-Si:H)PENDAHULUANRUMUSAN MASALAHBagaimana peranan lapisan-i terhadap efisiensi sel surya p-i-n berbasis a-Si:H.BATASAN MASALAHKajian PustakaSlide Number 6Slide Number 7METODOLOGI PENELITIANMETODOLOGI PENELITIANMETODOLOGI PENELITIANMETODOLOGI PENELITIANFabrikasi Sel SuryaFabrikasi Sel SuryaKarakteristik I-VHasil dan PembahasanSlide Number 16Slide Number 17Struktur permukaan sel surya p-i-nKarakteristik I-V sel suryaKarakteristik I-V sel suryaKESIMPULANTERIMAKASIH