SEMINAR NASIONALSDM TEKNOLOGI NUKLIR VII

YOGY AKARTA, 16 NOVEMBER 2011ISSN 1978-0176

RANCANG BANGUN DAN ANALISIS ALAT PELAPISAN TEMBAGAMENGGUNAKAN TEKNIK ELEKTROPLATING

Budi Suhendro(l), Tri Laela DS (1) Suyamto(2)

(I)Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir (STTN)(2)Pusat Teknologi Akselerator dan Proses Bahan (PT APB)

Badan Tenaga Nuklir Nasional11.Babarsari P.O.Box 6101 YKBB Yogyakarta 55281

ABSTRAK

RANCANG BANGUN DAN ANALISIS ALAT PELAPISAN TEMBAGA MENGGUNAKAN TEKNIK

ELEKTROPLATING. Elektroplating merupakan salah satu proses finishing yang digunakan untukmenanggulangi terjadinya korosi permukaan logam karena proses oksidasi. Logam yang dilapisi adalahAluminium karena jumlahnya yang melimpah dan paling banyak digunakan. Elef..1rolit yang digunakanadalah CuSO 4 yang diencerkan dengan air dengan perbandingan 1 kg dilarutkan ke dalam air 12 liter.Anoda dari plat tembaga dengan ukuran 6 x 30 em, katoda digunakan sebagai barrel dengan daya tampung6 benda kerja. Pelaksanaan pelapisan dilakukan dengan variasi arus yang diatur dengan resistor 0; 2,7, 5,6,dan 15 0. Variasi tegangan dilakukan dengan mengubah step trafo 12, 18, dan 25 V, waktu pelapisandivariasi 15; 30;, 45 dan 60 men it. Alat yang dibuat memiliki waktu pakai selama 5 jam pelapisan tanpahenti. Dari percobaan diketahui bahwa dengan variasi arus dihasilkan deposit yang paling banyakdibandingkan dengan varisasi tegangan, sedangkan dengan waktu yang lebih lama akan dihasilkan deposityang lebih banyak tergantung ketersediaan dari ion Cu2+ di dalam larutan.

Kata kunci : Elektroplating, variasi arus, tegangan, waktu

ABSTRACTDESIGN NAD ANALYSISN OF COPPER METAL COATING TOOL USING ELECTROPLATING

TECHNIC. Electroplating is a finishing process used to cope with the occurrence of slllface corrosion dueto oxidation processes. Alumunim is a subject to be coated because they are readily available and mostwidely used. Electrolytes used were 1 kg of CUS04 dissolved into 12 liters of water. Anodes made of thecopper plate with a size of 6 x 30 em, the cathode is used as a barrel with capacity 6 workpieces. Theimplementation of the coating is done by adjusting electricity current using 0, 2.7 ohms, 5.6 ohms and 15ohms variable resistors. Voltage variations is peiformed by changing the tap voltage transformer of 12, 18,25 volt. Duration of electroplating proces is carried out by changing the coating time of 15; 30; 45 and 60minutes. The device that have been made has a life time of 5 hours coating continously without stop. Fromthe experiment it is known that by current variation obtined the most widely deposits compared withvarisasi voltage, whereas with a longer time will be got more deposit depending on the availabilityof Cu 2 + ions in solution.

Key word : Electroplating, current, voltage, time variations

1. PENDAHULUAN

Pada pemakaian logam sering timbul masalahseperti korosi, kurang menarik, kurang kuat dansebagainya. Tetapi yang paling menonjol adalahmasalah korosi. Hal ini terjadi karena adanya prosesoksidasi antara logam yang digunakan baik dilingkungan yang lembab, panas dan air asin. Bilakorosi timbul dapat menjadikan kekuatan logamyang dipakai melemah. Untuk itu banyak dilakukan

finishing terutama untuk logam-logam yang mudahmengalami korosi. Salah satu teknik finishing danteknik penanggulangan korosi adalah dengan teknikelektroplating. Diharapkan dengan dipakainyateknik elektroplating kekuatan dan ketahananmaterial terhadap korosi akan bertambah. Manfaatlain dari teknik elektroplating adalah masalahestetika dan harga jual dari logam yang telah di lapisakan menjadi lebih baik. Dalam percobaan urn yangsering dilakukan, pelapisan logam dilakukan dengan

Budi Suhendro dkk 611 Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BA TAN

sangat sederhana salah satunya denganmenggunakan sumber tegangan dari baterai dandirasa kurang efektif karena umur pakai yang terIalusingkat, tegangannya tidak dapat diatur dan dayanyaterbatas. Dengan demikian pemakaian sumbertegangan bolak-balik dari PLN untuk catu dayaelektroplating sangat diperlukan karena akan lebihefektif. Salah satu tujuan dari "Rancang Bangun danAnalisis Alat Pelapisan Tembaga MenggunakanTeknik Elektroplating" adalah untuk mengetahuihubungan antara hasil pelapisan dengan tegangan,arus dan waktu pelapisan yang diberikan.

Peralatan yang dirancang menggunakan catudaya arus bolak-balik (Ae) kemudian DC, larutanpelapis yang digunakan adalah Tembaga SuIfat(CUS04) teknis, dan pengujian dilakukan denganmemvariasikan tegangan, arus, dan waktu.

2. DASAR TEORI

SEMINAR NASIONALSDM TEKNOLOGI NUKLIR VII

YOGY AKART A, 16 NOVEMBER 2011ISSN 1978-0176

Pelapisan secara listrik atau elektroplatingadalah elektrodeposisi pelapisan (coating) logammelekat ke elektroda untuk menjaga substrat denganmemberikan sifat dan dimensi berbeda dari padalogam basisnya [I]. Pada sistem elektrokimia cairanelektrolit bila diberi tegangan akan terjadi elektrolisadan ion-ion akan bergerak menuju elektrode. Kationakan menuju katoda sedangkan anion menuju anoda.Hukum yang berkaitan dengan massa yangterbnetuk dalam elektroplating adalah[ I,~] :

1. Hukum Faraday IPada hukum Faraday tersebut dijelaskan

bahwa massa zat yang terbentuk pada masing­masing elektroda sebanding dengan kuatarus/arus listrik yang mengalir pad a elektrolisistersebut [~J. Secara matematis dapat ditulissebagai Persamaan (1).

A q eitm=_r_=_ (1)nF F

udara

~"" ...••

Katocta

""001.

a..,.utan IEJttetrolit

Gambar I. Skema pelapisan secara elektroplating

Faktor-faktor yang Mempengaruhi KeberhasilanKeandalan Elektroplating [4J

Banyak faktor yang mempengaruhi keandalanelektroplating antara lain adalah suhu larutan saatproses, arus yang mengalir pada elektrode,konsentrasi larutan, agitasi, nilai pH larutan,pasivitas, dan lamanya pelapisan.

Suhu larutan pada saat pelapisan berIangsungharus dijaga stabil agar pelapisan dapat lebihsempuma karena bila suhu naik terIalu tinggi akanmenyebabkan naiknya konduktititas dan difusitaslarutan elektrolit. Akibatnya adalah tahananelektrolit akan mengecil sehingga kemampuan untukmereduksi ion-ion logam berkurang. Besamay suhularutan saat proses ditentukan oleh beberapa faktorantara lain jarak anoda dan katoda dan arus yangdigunakan.

Kerapatan arus ke elektroda sangatmempengaruhi lama pelapisan sampai ketebalantertentu. Arus listrik diperIukan untuk mendapatkanatom-atom logam pada tiap satuan luas permukaanbenda kerja yang akan dilapis.

Konsentrasi ion di dalam larutan

mempengaruhi mobilitas ion dan konduktivitaslarutan juga.

Agitasi adalah proses pengadukan yangdimaksudkan untuk menghindari bentuk strukturdan ketebalan lapisan yang tidak seragam. Disamping itu juga bertujuan untuk pengisian kembaliion-ion logam yang berkurang di dekat katoda ataubenda kerja, mencegah terjadinya gelembung udarapada bagian permukaan benda kerja.

Nilai pH diperIukan untuk mengontrol larutanelektroplating.agar kemampuan larutan elektrolitdalam menghasilkan lapisan tetap baik.

Pasivitas merupakan lapisan pasif pengotorpada logam seperti korosi dan minyak yangmenempel pada logam dan bila terdapat pada anoda,ion-ion logam pelapis terus menu run sehingga akanmengganggu proses pelapisan.

Waktu pelapisan sangat mempengaruhiketebalan lapisan yang diinginkan, semakin lamawaktu pelapisan akan dihasilkan lapisan yangsemakin tebal [4,5].

Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BA TAN 612 Budi Suhendro dkk

ok ~ slahiliser ~

SEMINAR NASIONAL

SDM TEKNOLOGl NUKLlR VII

YOGY AKARTA, 16 NOVEMBER 2011ISSN 1978-0176

Bahan Pelapis Dalam Proses ElektroplatingTembaga banyak digunakan untuk

pelapisan karena dapat menutup permukaan bahan

yang dilapis dengan baik dan mempunyai dayatembus yang tinggi. Namun pelapisan dengan

tembaga pada umumnya masih belum memuaskan

sehingga diperlukan pelapisan lanjut menggunakanbahan nikel, kemudian dilakukan pelapisan akhir

menggunakan khrom. [4].

I lransfonnalor rl penyearah

3. PEMBUATAN ALAT DAN METODOLOGIPENGUJIAN

3.1 Pembuatanan alat

Perlatan pada penelitian ini terdiri dari 3

bagian yaitu bagian eatu daya, beban pelapisan dan

alat penunjang. Catu daya yang digunakanditunjukkan pada blok diagram Gambar 2,

sedangkan rangkaian ditujukkan pada Gambar 3 dan4

variabelresistor

71512

cr-..I';H{IFC ..=IOtJnF

Gambar 3. Catu daya dengan stabiliser IC 7812

0••••

Gambar 3. Catu daya dengan stabiliser dari transistor

Catu daya pada Gambar 3 menggunakan

stabiliser IC 7812 untuk meneatu rangkaian pewaktu(timer) dan motor penggerak agitator (barrel),sedangkan pada Gambar 4 digunakan stabilisertransistor untuk meneatu beban pelapisan yang

memerlukan arus besar yaitu 0 sampai dengan 10

amper.Variabel resistor digunakan untuk mengatur

arus yang masuk ke beban yang dalam enelitian ini

ditentukan 4 buah yaitu Ro (0 % watt), RJ (2,7.Q/1 0 watt), R~ (5,6.Q /20 watt) dan ~ (150/20 watt.

Beban pelapisan berupa plat anoda dan

katoda yang diletakkan di dalam bak penampunglarutan elektrolit dengan volume total dari bak

pelapisan terse but adalah 41 liter dan alat penunjang

yang terdiri dari pengaduk, pewaktu, pemanas, dan

alat ukur. Dalam raneangan ini bahan anoda dari

tembaga karena mempunyai konduktivitas yang baik

dengan ukuran 30 x 6 em. Sebagai katoda dibuatdari aluminium (AI) karena beberapa pertimbangan

antara lain karena sebagi penghantar listrik dan

panas yang baik, ringan, tidak bersifat magnetik,mudah dibentuk, banyak dipakai untuk berbagai

keperluan, tahan korosi, banyak terdapat di pasaran,

harganya murah dan sebagainya. Katoda AI dibuatdengan ukuran 2 x 7 em sebanyak 5 buah diikat

pada barrel atau pen gad uk. Sebagai bahan pelapis

digunakan larutan a5am sui fat yang dieneerkandengan konsentrasi 1 kg dalam 12 liter air(CuS045H~O), dan bak pelapisan berikut

pengaduknya (barrel) ditunjukkan pada Gambar 5.

Budi Suhendro dkk 613 Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BA TAN

SEMINAR NASIONALSDM TEKNOLOGI NUKLIR VII

YOGYAKARTA,16NOVEMBER2011ISSN 1978-0176

(a) (b)Gambar 5. (a) Bak pelapis dan (b) Barrel

Alat penunjang antara lain terdiri daripewaktu (timer), pemanas (heater) serta alat ukurtegangan dan arus. Untuk pewaktu digunakan

Omron H3BA-8 dan untuk pembatas suhudigunakan termostat KSD 302 250V/1 OA, lihatGambar 6.

(a) (b)Gambar 6. (a) Pewaktu Omron H3BA-8, (b) Termostat KSD 302 250V/10A

3.2 Metode Percobaan

Dalam penelitian ini, setelah perangkat keras selesaidibuat dilakukan langkah-Iangkah percobaansebagai berikut :

1. Persiapan bahan yang akan dilapis meliputipemotongan bahan AI yang akan dilapis,pemolesan, penimbangan bahan danpembersian secara kimiawi dengan dicelumke dalam asam nitrat

2. Proses elektroplating menggunakan asamsui fat yang telah diencerkan kemudian,dilakukan pencatuan daya ke elektodedengan mevariasi arus, tegangan danwaktu.

a. Variasi arus dilakukan denganmengubah nilai resistor pada tegangantetap sebesar 18 V dan waktupelapisan 30 menit.

b. Variasi tegangan dilakukan denganmengubah tap tegangan keluaran trafodari 12, 18, 25, dan 32 V dan waktupelapisan tetap yaitu 30 menit.

c. Variasi waktu pelapisan dilakukandengan waktu pelapisan 15, 30, 45,dan

d. udara pada bagian permukaan benda kerja,dan menghindari penumpukan 60 menitpada tegangan dan arus tetap yaitu 18 Vdan 2,5 amper.

Pada setiap kali satu percobaan pelapisanselesai, harus diberi jeda waktu sebelumdilakukan percobaan berikutnya. Hal III I

bertujuan untuk memberikan kesempatankepada ion-ion Cu2+ menempel kepada bendauji, agar terjadi pengisian kembali ion-ionlogam yang berkurang di dekat bendua kerja,mencegah terjadinya gelembung udara padabagian permukaan benda kerja, danmenghindari penumpukan ion-ion logam dalamlarutan.ion-ion logam dalam larutan sehinggakonsentrasi ion dapat tersebar secara merata.

3. Tahap akhir yaitu pencucian, pengeringan. danpenimbangan bahan

4. HASIL DAN PEMBAHASAN

Peralatan yang dibuat dapat dioperasikandengan baik, hasil pengujian meliputi 3 hal yaitupengujian dengan variasi arus, tegangan, dan waktu.Pada setiap percabaan percobaan Jeda waktu

Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BA TAN 614 Budi Suhendro dkk

1. Hasil pelapisan logam dengan variasi arusPada percobaan ini tegangan sumber dari trafo

tetap yaitu 12 volt, waktu pelapisan 30 menit,larutan diaduk selama 10 detik. Pengubahan arus kebeban dilakukan dengan memberikan perrubahantahanan variabel 0; 2,7; 5,6 dan 15 O. Hasilnyaditunjukkan pad a Tabel 1.

Tabel 1. Hasil pelapisan logam dengan variasi arus

Massa hasil pelapisan (gram)234

0.4544 0.4065 0.42490.5105 0.4287 0.39590.3407 0.3177 0.38660.3580 0.4189 0.3934

SEMINAR NASIONALSDM TEKNOLOGI NUKLIR VIIYOGY AKART A, 16 NOVEMBER 2011ISSN 1978-0176

pelapisan yang diberikan bertujuan untukmemberikan kesempatan kepada ion-ion Cu2+ untukmenempel kepada benda uji dan pemutarandigunakan untuk pengisian kembali ion-ion logamyang berkurang didekat benda kerja, mencegahterjadinya gelembung

Arus

(amper)3,82,21,40,5

1

0.44180.46800.29140.4284

50.42250.30820.45170.2851

Rata-rata

(gram)0,430020,422260,357620,37676

2. Hasil pelapisan logam dengan variasitegangan inputPerubahan tegangan input ke beban

dilakukan dengan mengubah tegangan sumber.

Hambatan depan dipasang 2,7 0, sedangkanwaktu pelapisan dan pengadukan sarna denganpercobaan sebelumnya yaitu waktu memvariasiarus. Hasilnya ditunjukkan pada Tabel 2:

Tabel 2. Hasil pelapisan logam dengan variasi tegangan input

Tegangan Massa hasil pelapisan (gram) Rata-ratatrafo 1 2 3 4 5 (gram)12 V 0.2429 0.2115 0.0807 0.0712 0.1225 0.1457618 V 0.1919 0.1221 0.1311 0.1625 0.1043 0.1423825 V 0.0919 0.0850 0.0542 0.0761 0.0588 0.0732

1. Hasil pelapisan logam dengan van as1

waktu

Pada percobaan ini dipasang resistor 0 ohm,arus ke elektrode 2.5 A, tegangan sumber 18 V dan

tegangan ujung beban rata-rata 2,65 V. Sedangkanwaktu pengadukan sarna dengan percobaansebelumnya. Hasilnya ditunjukkan pada Tabel 3.

Tabel3. Hasil pelapisan logam dengan variasi waktu

Waktu (menit)

Massa hasil pelapisan (gram)Rata-rata (gram)1

2345

150.10400.11400.11390.10240.11440.10974

30

0.13410.12720.02230.45900.23420.19536

45

0.39190.35210.19430.40910.48740.36696

60

0.53460.35940.19040.16470.33490.3168

Pembahasan

Alat yang telah dibuat memiliki kemampuanmaksimal menghasilkan arus sebesar 5 A, bakpelapisan logam mempunyai volume 41 teliter tetapihanya diisi kurang lebih 18 liter. Daya resistorminimal yang diperlukan agar tidak over heat adalah

P = 12R sehingga nilai daya resistor minimalyang harus digunakan untuk mengatur arus agartidak terjadi over heat adalah seperti yangditunjukkan pada Tabel4.

Tabel 4. Daya resistor yang digunakan

RxCohm)

ArusDaya resistor

(amper)(watt)

0

3,8 0

2,72,2 13,086

5,61,410.976

150,5 3.75

Hasil pelapisan yang ditunjukkan pad a Tabel 1bila digambarkan dalam bentuk grafik adalah sepertipada Gambar 4.

Budi Suhendro dkk 615 Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BATAN

Gambar 4.Hubungan antara massa deposit pelapisandan arus

Arus tamper)

SEMINAR NASIONALSDM TEKNOLOGI NUKLIR VII

YOGY AKART A, 16 NOVEMBER 2011ISSN 1978-0176

Pad a proses pelapisan dengan variabel waktudihasilkan grafik kenaikan massa deposit sepertiyang ditunjukkan pada grafik Gambar 5.

E 0,45:: 0,43~~ OA1

.~ 0,391

.t: 0,37

8. 0,35"."

:Ji 0,33

~ a 0,75 1,5 2,25 3,75

0,45!..~ 0.3'g-o;

;; 0,15l""~ °E 12 27 42

waktu pelapisan (menit)

57

Gambar 4 di atas menunjukkan bahwa bila arusyang digunakan semakin besar maka massapelapisan yang terbentuk juga akan semakin banyak.

Pada Gambar 5 ditunjukkan grafik hasil depositdengan variasi tegangan input. Pada proses tersebutterjadi penurunan deposit yang sangat drastis padategangan 18 V. Hal ini terjadi karena konsentrasiCu2+ dalam larutan habis dan setelah itu diikuti

penurunan arus secara drastis sampai 0,11 A.

0,2E ::~c 0,15

Bi '0.'"Qjc..~

0,1

c."."'"'" 0,05'" '"E 10 15202530

tegangan input Ivoltl

Gambar 6. Hubungan massa deposit pelapisan dantegangan input dengan waktu pelapisan selama 30

menit

Gambar 5. Hubungan antara massa depositpelapisan dan waktu pad a tegangan rata-rata

2,65 V dan arus 2,5 A

Dari grafik tersebut dapat diketahui bahwadengan proses pelapisan yang lebih lama juga akandihasilkan massa deposit yang lebih banyak. Beratdeposit pelapisan secara percobaan atau praktektersebut di atas dapat dibandingkan dengan hasilperhitungan dengan memasukkan nilai i dan t padapersamaan (1) dimana Ar = 63,5; n = 2 dan F =96.500. Selisih massa deposit antara praktek danteoritis total untuk 5 buah sampel ditunjukkan padaTabel7.

Variasi

Arus

Tegangan

Waktu

Tabel 7. Perbedaan hasil pelapisan total secaJ'a teoritis dan percobaan

Massa

MassaSelisihTegangan TeganganArusWaktu percobaa

trafo (volt)beban (volt)(amper)(detik)

rumus massa(gram)

n(gram)(gram)12

1,93,818002.25052.15010.10047,3

2,218001.30302.11130.80848,77

1,418000.82911.78810.959011,2

0,518000.29611.88381.5877

12

7,83218001.18450.72880.455718

11,052,7518001.59900.71190.887225

13,53,5515001.75200.36601.3860

18

2,62.59000.74030.54870.19162,67

18001.48060.97680.50382,7

27002.22091.83480.38612,77

36002.96111.58401.3771._~~

Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BATAN 616 Budi Suhendro dkk

SEMINAR NASIONALSDM TEKNOLOGI NUKLIR VIIYOGYAKARTA, 16 NOVEMBER 2011ISSN 1978-0176

Pad a umumnya proses elektroplating dilakukandengan catu tegangan konstan dan arusnya yangdivariasi, karena secara teknis memvariasi arus lebihmudah dilakukan yaitu dengan menambahkantahanan. Pad a Tabel 7 terlihat bahwa denganperubahan arus yang kecil dihasilkan deposit yanglebih banyak dibanding dengan perubahan teganganyang cukup besar. Dilihat dari selisih massa an taraperhitungan dengan percobaan yang semakin besaruntuk varisai arus yang semakin kecil menunjukkanbahwa ion Cu2+ dalam larutan CuS04 sudah

hampir habis dan tergantikan oleh pengotor. Waktuefektif pemakaian alat pelapisan yang dibuatberdasarkan hasil pengujian adalah selama 5 jamyang ditandai dengan tidak adanya lagi arus yangmengalir ke elektrode setelah waktu tersebutterlampaui karena .

s. KESIMPULAN

1. Hasil pelapisan pada Tabel 3, dalam waktu 30menit dihasilkan massa maksimal 0,43002gram pada arus 3,8 A. Tegangan akanmembantu proses pelapisan ketika arus mulaimenu run dibuktikan dengan arus 0,5 A dantegangan beban 11,02 V atau pada daya 5,5 Wdihasilkan deposit 0,37676 gram

2. Semakin lama waktu pelapisan akan dihasilkandeposit pelapisan semakin banyak asalkanmasih cukup tersedia ion Cu2+ dalam larutan.Hal ini dibuktikan dengan pelapisanmenggunakan arus 2,5 A dengan waktu 15menit dihasilkan massa rata-rata dari 0,10974gram, sedangkan dengan waktu 45 menitdihasilkan deposit 0,36696 gram.

3. Alat yang telah dibuat dapat dipakai untukmelapis dalam waktu 5 jam secara terusmenerus.

Budi Suhendro dkk

6. DAFTAR PUSTAKA

1. Hartono, Anton J., dan Kaneko,Tomijiro, 1995,Mengenal Pelapisan Logam, Yogyakarta

2. Hiskia, Ahmad, 1992, Elektrokimia danKinetika Kimia, Citra Aditya Bakti, Bandung

3. http://id.wikipedia.org/wiki/Elektroplatingdiakses 13 Juli 2011 jam 22.13 WIB

4. Santosa, Bambang dan Syamsa, Martijanti,2007, Pengaruh Parameter Proses PelapisanNikel Terhadap Ketebalan Lapisan, Jumalteknik mesin vol. 9, No.1, Universitas JenderalAchmad Yani.

5. Suarsana, I Ktut, 2008, Pengaruh WaktuPelapisan Nikel Pada Tembaga DalamPelepisan Khrom Dekoratif Terhadap TingkatKecerahan Dan Ketebalan Lapisan, Jumalilmiah teknik mesin cakram vol. 2, No.1,UNUD.

6. Prayitno, Dwi, 2005, Perbedaan Berat HasilPelapisan Nikel Akibat Penggunaan LapisanDasar Cu Dan Tanpa Lapisan Dasar CuDengan Variasi Waktu Pada Bahan BajaKarbon Rendah, Skripsi Pendidikan Teknikmesin/Sl, UNNES.

7. www.chem-is­

try.org/tabelyeriodik/alumunium! : diakses 15Juli 2011 jam 07:06 WIB

8. gabunganteknik. wordpress.com!2008/04/13/aluminium! : diakses 15 Juli 2011 jam 07:06 WIB

9. httpllen.wikipedia.org/wiki/copper%28II%29_Sulfate: diakses 15 Juli 2011 jam 07:10 WIB

10. http://id.wikipedia.org/wiki/Tembaga : diakses15 Juli 2011 jam 07:15 WIB

617 Sekolah Tinggi Teknologi Nuklir-BATAN